納米二氧化硅高剪切分散機，二氧化硅分散機，異丙醇改性分散機，納米二氧化硅研磨分散機

異丙醇改性納米二氧化硅高速剪切研磨分散機， 15-30nm粒徑20%含量的納米二氧化硅異丙醇、乙醇、丁醇溶液為白色漿料，適用于溶劑型體系，具有增稠、觸變、防流掛作用。

影響納米材料分散要素：

1、分散介質

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質的結構、極性、溶度參數(shù)等密切相關。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。

（3）水性介質中，推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS 。 

3、分散設備

 上海SGN（思峻）機械設備有限公司專門應對納米材料易團聚需分散開發(fā)的高剪切研磨分散機GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質里的分散。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

D1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出ZUI終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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